2025年06月17日，谢琎研究员应邀来材料化学工程全国重点实验室为师生们做了一场题为“高镍层状氧化物高温固相合成中的表面调控机制”的学术报告。报告由陈宇辉教授主持，相关研究领域的老师和研究生们参加了本次学术报告会。

在本次报告中谢琎研究员首先介绍了高温固相合成的界面挑战，由此问题引出原子层沉积（ALD）技术。谢琎研究员详细介绍了ALD技术，并介绍了通过ALD技术进行粉体材料的ALD薄膜构筑、演化，及表面锚定机制，通过在层状氧化物表面引入Al来抑制层状结构的重排，以及通过引入Ti抑制了层状氧化物中氧的析出。随后谢琎研究员介绍了粉体材料的ALD薄膜及其在晶粒调控中的作用机制，通过ALD技术可以将二次粒子中的一次粒子细化，增强了其稳定性，并且细化后可以使二次粒子烧结更均匀。报告结束后，参会的老师和同学们提问积极，谢琎研究员对提出的问题进行了详细的讨论和解答。最后对于谢琎研究员再次表示感谢，本次学术报告取得圆满成功。

附：谢琎研究员简介：

谢琎，上海科技大学研究员。2009年毕业于复旦大学，2009-2015在波士顿学院取得博士学位，2015-2018在斯坦福大学从事博士后研究。入选国家和上海市高层次青年人才项目。课题组主要研究方向包括：开发原子层沉积与气相渗透合成工艺，设计和制备原子尺度新型材料界面，并结合大科学装置表征与分析纳米器件中的材料界面问题。在Nature Nanotechnology、 Journal of the American Chemical Society、 Angewandte Chemie International Edition、Advanced Materials、Matter、Nature Communications 和Science Advances 等学术期刊上发表论文80余篇，总引用次数超过16000次。